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기본정보
| 장비사진 |
|
장비명(한글) | 플라스마 세정장치 |
|---|---|---|---|
| 장비명(영문) | Plasma Asher | ||
| 장비분류 | 반도체공정 | ||
| 도입년도 | 2015 | ||
| NTIS번호 | |||
| 장비위치 | 방사선기기FAB. | 장비상태 | 사용가능 |
| 기본사용료(천원) | 10 | 전문가의뢰 | NO |
| 장비사진파일 | 45플라스마 세정장치.JPG (29707 byte) | ||
상세정보
| 사양 | ●Substrate size : 6 inch ●Capacity : 1(one) substrate ●Source(gas) injection type : Showerhead type ●Substrate chuck : Water cooling chuck [option : heating chuck] ●Power supply : 600 W RF generator & auto matching network ●Ultimate pressure : 5*10-3 Torr ●Vacuum pump : Rotary pump (Dry type) ●Used gases : O2, Ar ● System control : PC & Touch control |
|---|---|
| 용도 | ● photolithography공정 후 잔류 Photoresist 제거용 |
장비담당자정보
| 장비담당자명 | 강창구 | 장비담당전화 | 063-570-3706 |
|---|---|---|---|
| 장비담당부서 | 방사선기기연구부 | 장비담당직위 | 선임연구원 |
| 장비담당팩스 | 063-570-3748 | 장비담당메일 | cgkang@kaeri.re.kr |