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기본정보
| 장비사진 |
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장비명(한글) | 전자빔 증착장치 |
|---|---|---|---|
| 장비명(영문) | E-beam evaporator | ||
| 장비분류 | 반도체공정 | ||
| 도입년도 | 2015 | ||
| NTIS번호 | |||
| 장비위치 | 방사선기기FAB. | 장비상태 | 사용가능 |
| 기본사용료(천원) | 전문가의뢰 | NO | |
| 장비사진파일 | 35전자빔 증착장치.JPG (65967 byte) | ||
상세정보
| 사양 | ●Substrate size : 6 inch ●Capacity : 3 wafer ●E-beam power : 10 kW (0~10 kV, 0~0.6 A) ●E-beam source : 15 cc x 6 pockets ●XY sweep : Variable frequency ●Ultimate pressure : 5*10-7 Torr ●Vacuum pump : Cryo pump + Rotary pump ●System control : PC control |
|---|---|
| 용도 | ● 고순도 Pt, Al, Au 등의 금속막 증착 |
장비담당자정보
| 장비담당자명 | 강창구 | 장비담당전화 | 063-570-3706 |
|---|---|---|---|
| 장비담당부서 | 방사선기기연구부 | 장비담당직위 | 선임연구원 |
| 장비담당팩스 | 063-570-3748 | 장비담당메일 | cgkang@kaeri.re.kr |