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기본정보
| 장비사진 |
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장비명(한글) | 플라스마 세정장치 |
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| 장비명(영문) | Plasma Asher | ||
| 장비분류 | 반도체공정 | ||
| 도입년도 | 2015 | ||
| NTIS번호 | NFEC-2015-07-203850 | ||
| 장비위치 | 방사선기기팹센터 (1층 07호) | 장비상태 | 사용가능 |
| 기본사용료(30분) | 28300 원 | 전문가의뢰 | NO |
| 장비사진파일 | 45. 플라스마세정장비.jpg (955082 byte) | ||
상세정보
| 사양 | ●Substrate size : 6 inch ●Capacity : 1(one) substrate ●Source(gas) injection type : Showerhead type ●Substrate chuck : Water cooling chuck [option : heating chuck] ●Power supply : 600 W RF generator & auto matching network ●Ultimate pressure : 5*10-3 Torr ●Vacuum pump : Rotary pump (Dry type) ●Used gases : O2, Ar ● System control : PC & Touch control |
|---|---|
| 용도 | ● photolithography공정 후 잔류 Photoresist 제거용 |
장비담당자정보
| 장비담당자명 | 강창구 | 장비담당전화 | 063-570-3706 |
|---|---|---|---|
| 장비담당부서 | 방사선이용·운영부 | 장비담당직위 | 선임연구원 |
| 장비담당팩스 | 063-570-3748 | 장비담당메일 | - |