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기본정보
| 장비사진 |
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장비명(한글) | 회전식 웨이퍼 세정기 및 건조기 |
|---|---|---|---|
| 장비명(영문) | Spin Rinse Dryer | ||
| 장비분류 | 반도체공정 | ||
| 도입년도 | 2015 | ||
| NTIS번호 | |||
| 장비위치 | 방사선기기FAB. | 장비상태 | 사용가능 |
| 기본사용료(천원) | 전문가의뢰 | NO | |
| 장비사진파일 | 44회전식 웨이퍼 세정기 및 건조기.JPG (30351 byte) | ||
상세정보
| 사양 | ● Wafer Size : 6 inch ● Capacity : 1 cassette (25 wafer) ● N2 Filter : 0.003 ~ 0.005 um ● Hot N2 Temperature : 4 channel temperature ● Spin Tolerance : 1 % ● Control : PLC control (touch pannel) |
|---|---|
| 용도 | ● 방사선 화합물 및 wafer형 반도체 센서 cleaning용 |
장비담당자정보
| 장비담당자명 | 강창구 | 장비담당전화 | 063-570-3706 |
|---|---|---|---|
| 장비담당부서 | 방사선기기연구부 | 장비담당직위 | 선임연구원 |
| 장비담당팩스 | 063-570-3748 | 장비담당메일 | cgkang@kaeri.re.kr |