예약 신청
기본정보
| 장비사진 |
|
장비명(한글) | 액상세정장비 |
|---|---|---|---|
| 장비명(영문) | Wet Station | ||
| 장비분류 | 반도체공정 | ||
| 도입년도 | 2015 | ||
| NTIS번호 | |||
| 장비위치 | 방사선기기FAB. | 장비상태 | 사용가능 |
| 기본사용료(천원) | 전문가의뢰 | NO | |
| 장비사진파일 | 43액상세정장비.JPG (71266 byte) | ||
상세정보
| 사양 | ●Substrate size : 6 inch ●Process method : Cassette handling ●Cleaning bath : SC-1, SC-2, SPM, QDR ●Etching bath : DHF, QDR ●System control : PLC control (touch pannel) |
|---|---|
| 용도 | ●방사선 화합물 및 wafer형 반도체 센서 lithography 공정용 Acid, organic solvent 등을 이용한 세정 ● Furnace공정 전 세정 ● 반도체 웨이퍼의 Native Oxide 제거 |
장비담당자정보
| 장비담당자명 | 강창구 | 장비담당전화 | 063-570-3706 |
|---|---|---|---|
| 장비담당부서 | 방사선기기연구부 | 장비담당직위 | 선임연구원 |
| 장비담당팩스 | 063-570-3748 | 장비담당메일 | cgkang@kaeri.re.kr |