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기본정보
장비사진 | 장비명(한글) | 액상세정장비 | |
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장비명(영문) | Wet Station | ||
장비분류 | 반도체공정 | ||
도입년도 | 2015 | ||
NTIS번호 | NFEC-2015-09-204636 | ||
장비위치 | 방사선기기팹센터 (1층 07호) | 장비상태 | 사용가능 |
기본사용료(30분) | 58500 원 | 전문가의뢰 | NO |
장비사진파일 | 43. 액상세정장비.jpg (2412986 byte) |
상세정보
사양 | ●Substrate size : 6 inch ●Process method : Cassette handling ●Cleaning bath : SC-1, SC-2, SPM, QDR ●Etching bath : DHF, QDR ●System control : PLC control (touch pannel) |
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용도 | ●방사선 화합물 및 wafer형 반도체 센서 lithography 공정용 Acid, organic solvent 등을 이용한 세정 ● Furnace공정 전 세정 ● 반도체 웨이퍼의 Native Oxide 제거 |
장비담당자정보
장비담당자명 | 강창구 | 장비담당전화 | 063-570-3706 |
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장비담당부서 | 방사선이용·운영부 | 장비담당직위 | 선임연구원 |
장비담당팩스 | 063-570-3748 | 장비담당메일 | - |